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千屹PVD真空镀膜工厂介绍蒸发镀与溅射镀工艺的区别

返回列表 浏览:- 发布日期:2019-03-27 17:28:54【

       PVD真空镀膜技术是常见的镀膜加工技术,指在特定真空条件下采用物理方法,将靶材料气化成气化分子或电离,在基板材料表面沉积薄膜材料的技术。用于制备薄膜材料的物质被称为 PVD镀膜材料。溅射镀膜和真空蒸发镀膜是最主流的两种 PVD 镀膜方式。 

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       溅射镀膜是指溅射靶材高速离子束流轰击的目标材料。靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。由于高纯度金属强度较低,因此溅射靶材需要在高电压、高真空的机台环境内完成溅射过程。真空蒸发镀膜是指在真空条件下,通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点,是应用广泛的真空镀膜技术。 

       溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制,可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜,所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点,已成为制备薄膜材料的主要真空电镀加工技术之一; 蒸发镀膜简单便利、操作方便、成膜速度快。从工艺制造角度上来看,蒸镀材料的制造复杂度要远远低于溅射靶材,蒸发镀膜常用于小尺寸基板材料的镀膜。


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